La epitaksio de molekula trabo estis farita en alta vakuo aŭ ultra-alta vakuo (1 x 10^-8Pa) medio. La plej grava aspekto de molekula trabo epitaksio estas ĝia malalta depona indico, kiu kutime permesas al la filmo epitaksion kreski kun rapideco de malpli ol 3000 nm hore. Tia malalta depona indico postulas sufiĉe altan vakuon por atingi la saman nivelon de pureco kiel aliaj deponaj metodoj.

Por plenumi la ultra-altan vakuon priskribitan supre, la MBE-aparato （Knudsen-ĉelo） havas malvarmigan tavolon, kaj la ultra-alta vakua medio de la kreska ĉambro devas esti konservita uzante likvan nitrogenan cirkulan sistemon. Likva nitrogeno malvarmigas la internan temperaturon de la aparato al 77 Kelvino (−196 ° C). La malalta temperaturmedio povas plue redukti la enhavon de malpuraĵoj en vakuo kaj provizi pli bonajn kondiĉojn por la deponejo de maldikaj filmoj. Tial, dediĉita likva nitrogen -malvarmiga cirkulada sistemo estas bezonata por la MBE -ekipaĵo por provizi kontinuan kaj konstantan provizon de -196 ° C likva nitrogeno.