estas tre kontrolita metodo deponi atomajn tavolojn sur substrato, esenca por produkti duonkonduktaĵojn kiel transistoroj, laseroj kaj sunaj ĉeloj. Por atingi la altan precizecon postulatan en MBE, konservi stabilajn malaltajn temperaturojn estas esenca. Likva nitrogeno estas ofte uzata por ĉi tiu celo pro ĝia ekstreme malalta bolanta punkto de -196 ° C, certigante, ke la substratoj restu ĉe la necesaj temperaturoj dum la depona procezo.

Likva nitrogeno estas nemalhavebla en MBE -procezoj, provizante konsekvencan malvarmigan mekanismon, kiu certigas, ke la deponejo okazas sen nedezirataj termikaj fluktuoj. Ĉi tiu stabileco estas kerna por produkti altkvalitajn duonkonduktaĵojn, ĉar eĉ negravaj temperaturaj variadoj povas konduki al difektoj aŭ nekonsekvencoj en la atomaj tavoloj. La uzo de likva nitrogeno helpas atingi la ultra-altajn vakuajn kondiĉojn postulatajn por MBE, malhelpante poluadon kaj certigante la purecon de la materialoj.

are a breakthrough in the efficient transport of liquid nitrogen. Ĉi tiuj tuboj estas desegnitaj kun vakua tavolo inter du muroj, signife reduktante varmotransportadon kaj konservante la kriogenan temperaturon de likva nitrogeno dum ĝi vojaĝas de stokado al la MBE -sistemo. Ĉi tiu dezajno minimumigas la perdon de likva nitrogeno pro vaporiĝo, certigante konstantan kaj fidindan provizon al la MBE -aparato.